nor flash和nand flash的区别
NOR
和
NAND
是现在市场上两种主要的非易失闪存技术。
Intel
于
1988
年首先开发出
NOR flash
技术,彻底改变了原先由
EPROM
和
EEPROM
一统天下的局面。紧接着,
1989
年,东芝公司发表了
NAND flash
结构,强调降低每比特的成本,更高的性能,并且象磁盘一样可以通过接口轻松升级。
一、存储数据的原理 两种闪存都是用三端器件作为存储单元,分别为源极、漏极和栅极,与场效应管的工作原理相同,主要是利用电场的效应来控制源极与漏极之间的通断,栅极的电流消耗极小,不同的是场效应管为单栅极结构,而FLASH为双栅极结构,在栅极与硅衬底之间增加了一个浮置栅极。 浮置栅极是由氮化物夹在两层二氧化硅材料之间构成的,中间的氮化物就是可以存储电荷的电荷势阱。上下两层氧化物的厚度大于50埃,以避免发生击穿。 二、浮栅的重放电 向数据单元内写入数据的过程就是向电荷势阱注入电荷的过程,写入数据有两种技术,热电子注入(hot electron injection)和F-N隧道效应(Fowler Nordheim tunneling),前一种是通过源极给浮栅充电,后一种是通过硅基层给浮栅充电。NOR型FLASH通过热电子注入方式给浮栅充电,而NAND则通过 F-N隧道效应给浮栅充电。 在写入新数据之前,必须先将原来的数据擦除,这点跟硬盘不同,也就是将浮栅的电荷放掉,两种FLASH都是通过F-N隧道效应放电。 三、连接和编址方式 两种FLASH具有相同的存储单元,工作原理也一样,为了缩短存取时间并不是对每个单元进行单独的存取操作,而是对一定数量的存取单元进行集体操作, NAND型FLASH各存储单元之间是串联的,而NOR型FLASH各单元之间是并联的;为了对全部的存储单元有效管理,必须对存储单元进行统一编址。 ?? NAND器件使用复用的I/O口存取数据,8个引脚分时用来传送控制、地址和数据信息。 NAND 的全部存储单元分为若干个块,每个块又分为若干个页,每个页是 512byte ,就是 512 个 8 位数,就是说每个页有 512 条位线,每条位线下有 8 个存储单元;所以 NAND 每次读取数据时都是制定块地址、页地址、列地址(列地址就是读的页内起始地址)。每页存储的数据正好跟硬盘的一个扇区存储的数据相同,这是设计时为了方便与磁盘进行数据交换而特意安排的,那么块就类似硬盘的簇;容量不同,块的数量不同,组成块的页的数量也不同。 NAND FLASH 的读写操作是以页为基本单位,写入数据也是首先在页面缓冲区内缓冲,数据首先写入这里,再写命令后,再统一写入页内,因此每次改写一个字节,都要重写整个页,因为它只支持页写,而且如果页内有未擦除的部分,则无法编程,在写入前必须保证页是空的。 NOR的每个存储单元以并联的方式连接到位线,它带有SRAM接口,有足够的地址引脚来寻址,可以很容易地存取其内部的每一个字节。方便对每一位进行随机存取,它不需要驱动;具有专用的地址线,可以实现一次性的直接寻址;缩短了FLASH对处理器指令的执行时间。 四、性能 NOR FLASH的操作则是以字或字节为单位进行的,直接读取,所以读取数据时,NOR有明显优势。但擦除是扇区操作的。 NOR FLASH占据了容量为1~16MB闪存市场的大部分,而NAND flash只是用在8~128MB的产品当中,这也说明NOR主要应用在代码存储介质中,NAND适合于数据存储,NAND在CompactFlash、Secure Digital、PC Cards和MMC存储卡市场上所占份额最大。 NOR FLASH有专用的地址引脚来寻址,较容易与其它芯片进行连接,另外还支持本地执行,应用程序可以直接在FLASH内部运行,可以简化产品设计。 (编辑:李大同) 【声明】本站内容均来自网络,其相关言论仅代表作者个人观点,不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利,请及时与联系站长删除相关内容! |